臥式低溫水浴鍋CHDCW-1015高精度循環(huán)一體機(jī)

臥式低溫水浴鍋CHDCW-1015高精度循環(huán)一體機(jī)主要特征：

1、低溫恒溫槽采用全封閉進(jìn)口壓縮機(jī)制冷，制冷系統(tǒng)具有過(guò)熱、過(guò)電流多重保護(hù)裝置。

2、具有內(nèi)外循環(huán)作用，循環(huán)泵可以把槽內(nèi)被恒溫液體外引,建立第二恒溫場(chǎng)。

3、采用進(jìn)口全自動(dòng)PID溫度設(shè)定程序及進(jìn)口溫度傳感器，控溫精度高。溫度數(shù)字顯示。
4、大屏幕液晶中英文對(duì)照顯示，數(shù)據(jù)清晰，外形美觀，個(gè)性化界面讓工業(yè)控制不再單調(diào)。
5、低溫恒溫槽機(jī)身外殼采用鏡面防老化靜電噴漆技術(shù)，內(nèi)膽、臺(tái)面均為不銹鋼，清潔衛(wèi)生，美觀耐腐蝕。

6、槽內(nèi)冷液可外引,冷卻機(jī)外實(shí)驗(yàn)容器,也可在槽內(nèi)直接進(jìn)行低溫、恒溫實(shí)驗(yàn)。

技術(shù)參數(shù)：

●以下為臥式低溫恒溫槽可選配功能
1.可選配通訊接口與PC機(jī)同步操作。
2.可選配內(nèi)置1~30段的程序進(jìn)行溫度控制，自動(dòng)程序控溫，實(shí)時(shí)顯示設(shè)定溫度及時(shí)間程序 運(yùn)行狀態(tài)
3.可選配外接溫度傳感器功能，實(shí)現(xiàn)內(nèi)外溫度設(shè)定，可監(jiān)測(cè)和控制外循環(huán)時(shí)外部裝置體系的溫度。
4.可選配重新布局槽體內(nèi)置的冷卻盤(pán)管，對(duì)反應(yīng)槽的放熱反應(yīng)進(jìn)行控制。
5.可選配設(shè)計(jì)安裝磁力攪拌功能，無(wú)需外接立式攪拌機(jī)，操作簡(jiǎn)單方便，可以實(shí)現(xiàn)全封閉恒溫下的攪拌反應(yīng)。
6.腳輪可以根據(jù)客戶要求加裝，拆卸方便
7.接受各種尺寸規(guī)格或者特殊要求產(chǎn)品的定做

臥式低溫水浴鍋CHDCW-1015高精度循環(huán)一體機(jī)

低溫恒溫槽部件及內(nèi)部運(yùn)行原理

1、低溫恒溫槽部件：壓縮機(jī)、冷凝器、蒸發(fā)器、 風(fēng)機(jī)(內(nèi)、外)循環(huán)水泵、不銹鋼內(nèi)膽、加熱管、智能溫控表。

2、低溫槽內(nèi)部運(yùn)行原理：壓縮機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)后經(jīng)吸氣-壓縮-排氣-冷凝-節(jié)流-再低溫蒸發(fā)吸熱汽化.使的水溫降至溫控表所設(shè)定的溫度，如溫控表設(shè)定溫度高于常溫。溫控表內(nèi)接觸器自動(dòng)工作，給予加熱管電流信號(hào)， 加熱管開(kāi)始工作，在低溫恒溫槽工作時(shí)?？衫谜麢C(jī)的進(jìn)口和出口做機(jī)內(nèi)水源內(nèi)循環(huán)或者外循環(huán)，也可將機(jī)內(nèi)水源外引。在低溫恒溫槽體外做第二恒溫場(chǎng)。

高精度低溫恒溫槽的內(nèi)外循環(huán)作用及應(yīng)用范圍

高精度低溫恒溫槽，又稱高精度低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機(jī)的功能。廣泛應(yīng)用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測(cè)試及化學(xué)分析等研究部門(mén)、高等院校、工廠實(shí)驗(yàn)室及計(jì)量質(zhì)檢部門(mén)。根據(jù)槽開(kāi)口尺寸的不同，可在浴槽內(nèi)進(jìn)行恒溫實(shí)驗(yàn)，亦可通過(guò)軟管與其他設(shè)備相連接，與恒溫源配套使用。

外循環(huán)：通過(guò)泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設(shè)備連接，形成封閉回路，流回設(shè)備進(jìn)水口，是將槽內(nèi)恒溫介質(zhì)外引，建立外部恒溫場(chǎng)。內(nèi)循環(huán)：通過(guò)泵對(duì)槽內(nèi)液體介質(zhì)的循環(huán)吞吐，增加槽內(nèi)溫度的均勻性，減少溫度波動(dòng)。 循環(huán)水恒溫的應(yīng)用領(lǐng)域： 生化領(lǐng)域：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學(xué)反應(yīng)器(合成器)等。材料領(lǐng)域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機(jī)、ICP刻蝕、各種半導(dǎo)體設(shè)備、疲勞試驗(yàn)機(jī)、化學(xué)沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。